4 апреля в Москве представительство BTL Russia, крупнейшего производителя медицинского оборудования BTL Industries, провело презентацию инновационного аппарата Emsculpt Neo, сочетающего в себе две технологии и способного в одной процедуре уменьшать жировые отложения и повышать тонус мышц.
Результат достигается благодаря комбинации двух видов энергии — радиочастотного нагрева и магнитных полей. Это новый неинвазивный способ коррекции фигуры и поддержания здоровья. Для достижения результата достаточно четырёх процедур с интервалов 5–10 дней. Длительность сеанса на одну зону — 30 минут. За курс из четырёх процедур можно уменьшить жировые отложения в среднем на 30 %* и увеличить мышечную массу на 25 %*. На сегодняшний день на рынке эстетической медицины нет аналогов аппарата Emsculpt Neo.
Новый Emsculpt Neo имеет высокую рентабельность за счёт запатентованной технологии, короткого времени процедуры и меньшего количества сеансов, в сравнении с курсами на других аппаратах. Инновационная технология зарегистрирована в Европейском союзе (CE), США (FDA) и имеет регистрационное удостоверение на медицинское изделие в Российской Федерации.
Компания BTL Russia предоставляет сервисное обслуживание, программу обучения персонала клиники, а также маркетинговую поддержку для владельцев нового Emsculpt Neo.
*Описание принципа действия технологии и ее взаимодействие с тканью сформировано производителем по данным клинических исследований. Результаты и опыт пациентов могут отличаться. Приведенные данные представляют собой средние результаты, в разные периоды проведения клинических исследований. Подробное описание исследований размещено в открытом источнике в общедоступной информационной базе данных FDA в интернете или на сайте уполномоченного представителя производителя на территории России btlaesthetics.ru.
BTL®, EMSCULPT NEO® и HIFEM® являются зарегистрированными международными товарными знаками, охраняемыми в Российской Федерации, Европейском союзе и ряде других стран. Продукты, методы производства или использования могут относиться к одному или нескольким патентам США или иностранным патентам или заявкам, находящимся на рассмотрении.